为满足半导体客户在外延制造过程中对高纯石墨部件的需求，我公司致力于外延部件相关新工艺的深入研发，例如石墨基座的新型提纯工艺。通过新型提纯工艺有效降低石墨盘灰分，确保石墨基座在腐蚀气体环境与高低温循环条件中的稳定使用。